優(yōu)尼康科技有限公司—多年專注產(chǎn)品質(zhì)量的專業(yè)團(tuán)隊(duì)
Professional team focusing on product quality for many years產(chǎn)品展示
QUALITY PRODUCTS SHOW
2026
7-24硅透鏡曲率半徑測量:從模壓工藝控制到非接觸式3D面型檢測的精度升級
圖1:Zeta-20白光共聚焦輪廓儀對硅透鏡進(jìn)行曲率半徑與面型測量本文導(dǎo)讀·一、硅透鏡曲率半徑:光耦合效率的幾何基石·二、模壓工藝中的曲率半徑控制挑戰(zhàn)·三、傳統(tǒng)...2026
7-24硅透鏡壓印膠殘留測量:從工藝監(jiān)控到清洗效果量化的精度升級
本文導(dǎo)讀(目錄)一、硅透鏡:高速光模塊的核心光學(xué)元件二、納米壓印工藝中的壓印膠殘留:質(zhì)量控制的隱形變量三、傳統(tǒng)壓印膠殘留測量方法的三大短板四、Filmetric...2026
7-24VCESEL輪廓臺階測量:從氧化孔徑控制到非接觸式3D形貌檢測的精度升級
本文導(dǎo)讀?一、VCESEL與氧化孔徑:光通信核心器件的工藝命脈?二、氧化孔徑臺階:決定VCESEL性能的關(guān)鍵參數(shù)?三、傳統(tǒng)氧化孔徑測量方法的三大短板?四、Zet...2026
7-23磷化銦芯片氧化硅與光刻膠厚度測量:從工藝控制到無損檢測的精度升級
本文導(dǎo)讀?一、氧化硅與光刻膠:磷化銦芯片制造中的兩道關(guān)鍵膜層?二、厚度偏差:從工藝失控到器件失效的連鎖反應(yīng)?三、傳統(tǒng)厚度測量方法的三大短板?四、Filmetri...2026
6-24光刻硬實(shí)力!2026勢銀光刻產(chǎn)業(yè)大會將在杭州揭幕
2026勢銀(第六屆)光刻產(chǎn)業(yè)大會確定于6月24-25日以“光刻生態(tài)協(xié)同發(fā)展”為主題在杭州大會展假日酒店舉辦。本次會議設(shè)置先進(jìn)光刻技術(shù)研究及創(chuàng)新專場、半導(dǎo)體前道...2026
5-29倒計時5天! 優(yōu)尼康/翌穎科技受邀參加 SIA上海國際半導(dǎo)體技術(shù)大會
SIA上海國際半導(dǎo)體技術(shù)大會暨展覽會本次會議將于2026年6月3-5日在上海新國際博覽中心舉辦。當(dāng)“人工智能+”與“新質(zhì)生產(chǎn)力”成為制造業(yè)變革的核心驅(qū)動力,集結(jié)...2026
5-13優(yōu)尼康/翌穎科技贊助微納器件與系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)大會,初夏五月,邀您共赴大連!
2026年微納器件與系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)大會定于5月23、24日(22日報道日)在大連隆重召開。作為國內(nèi)微納器件領(lǐng)域的深度技術(shù)交流平臺,由中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會半導(dǎo)體分立器...2026
4-17