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自動(dòng)測(cè)量光學(xué)膜厚儀：工作原理與核心應(yīng)用解析
2026-9-18
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自動(dòng)測(cè)量光學(xué)膜厚儀是一種利用光學(xué)原理對(duì)材料表面薄膜進(jìn)行非接觸式、無(wú)損檢測(cè)的精密儀器。它主要通過(guò)光譜反射、光譜橢偏或白光干涉等技術(shù)，分析光在薄膜層間反射或透射時(shí)產(chǎn)生的干涉信號(hào)，從而精確計(jì)算出薄膜的厚度以及折射率等光學(xué)常數(shù)。這種設(shè)備不僅測(cè)量速度... -
四探針電阻率測(cè)量?jī)x由哪些結(jié)構(gòu)組成？2026-8-21
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四探針電阻率測(cè)量?jī)x是材料電學(xué)性能檢測(cè)的常用精密儀器，主要用于測(cè)試半導(dǎo)體材料、導(dǎo)電薄膜、金屬板材、粉體涂層等材質(zhì)的電阻率與方阻參數(shù)。材料的導(dǎo)電性能是工業(yè)生產(chǎn)與科研研發(fā)的重要指標(biāo)，傳統(tǒng)電阻檢測(cè)方式容易受接觸電阻影響，數(shù)據(jù)偏差較大。四探針檢測(cè)法憑...
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光刻硬實(shí)力！2026勢(shì)銀光刻產(chǎn)業(yè)大會(huì)將在杭州揭幕2026-6-24
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2026勢(shì)銀（第六屆）光刻產(chǎn)業(yè)大會(huì)確定于6月24-25日以“光刻生態(tài)協(xié)同發(fā)展”為主題在杭州大會(huì)展假日酒店舉辦。本次會(huì)議設(shè)置先進(jìn)光刻技術(shù)研究及創(chuàng)新專場(chǎng)、半導(dǎo)體前道光刻供應(yīng)鏈專場(chǎng)、新型顯示圖形化技術(shù)與材料專場(chǎng)、先進(jìn)封裝圖形化技術(shù)與材料專場(chǎng)四大核...
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倒計(jì)時(shí)5天！ 優(yōu)尼康/翌穎科技受邀參加 SIA上海國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)2026-5-29
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SIA上海國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)暨展覽會(huì)本次會(huì)議將于2026年6月3-5日在上海新國(guó)際博覽中心舉辦。當(dāng)“人工智能+”與“新質(zhì)生產(chǎn)力”成為制造業(yè)變革的核心驅(qū)動(dòng)力，集結(jié)1000+智能制造優(yōu)質(zhì)企業(yè)，預(yù)計(jì)迎來(lái)全球80,000余名專業(yè)觀眾。展會(huì)深度契合“...
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優(yōu)尼康/翌穎科技贊助微納器件與系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)大會(huì)，初夏五月，邀您共赴大連！2026-5-13
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2026年微納器件與系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)大會(huì)定于5月23、24日(22日?qǐng)?bào)道日)在大連隆重召開。作為國(guó)內(nèi)微納器件領(lǐng)域的深度技術(shù)交流平臺(tái)，由中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)半導(dǎo)體分立器件分會(huì)主辦的學(xué)術(shù)盛會(huì)已成功走過(guò)十八載。2026年，我們將繼續(xù)深耕微納技術(shù)沃土，聚...
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光學(xué)表面輪廓儀的使用方法與注意事項(xiàng)2026-4-17
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光學(xué)表面輪廓儀是一種利用光學(xué)干涉、共聚焦或結(jié)構(gòu)光照明原理，對(duì)物體表面三維形貌進(jìn)行非接觸測(cè)量的儀器，廣泛應(yīng)用于精密機(jī)械加工、半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件檢測(cè)、材料科學(xué)及生物醫(yī)學(xué)工程等領(lǐng)域。與接觸式探針輪廓儀相比，光學(xué)方法不會(huì)劃傷被測(cè)表面，且測(cè)量速度較...
